第85章 研发成功了！

，69这两个坐标。”

    “这两个坐标的附近，几乎都有3-4纳米的误差！”

    他从仪器中，取出了检验的晶圆平静的说道。

    “这么高的误差，表示我们依旧无法生产10纳米以下的芯片！”

    “距离目前世界上高精度芯片还有着相当的距离。”

    围绕在一旁的研究人员，以及专家无不底下头来。

    话虽然是这么说，可对比起他们之前的光刻机技术已经成长了许多了。

    尽管成功率不算高，在此之前也已经制造出几片5纳米规格的芯片。

    贺老平静的说道。

    “另外，我在这里宣布一个好消息，以及一个坏消息。”

    贺志远的声音，让众人再度抬起头来。

    这种说话语气，可不像是贺老啊。

    不过，光电研究团队，还是流露出好奇。

    “贺老，您说！”

    贺志远点了点头，平静的说道。

    “目前，其实我们的曝光系统其实已经基本没有问题。“

    “脉冲冷激光经过反射后，完全能够用于光刻。”

    他的语气一顿，继续说道。

    “先说坏消息。”

    “现在的问题在于，光刻机的对准系统出现了问题。”

    “在晶圆光刻后，始终会出现一定的偏差！”

    贺志远突然流露出一丝微笑。

    “至于好消息是，我已经想到了解决这个问题的方法！”

    “如果不出意外，目前我们所掌握的光刻技术，至少能够制造出1纳米级别的芯片！”

    正当众人准备鼓掌的时候。

    贺志远举起了手制止了众人。

    “还没成功呢！”

    “何况这点成就，与苏总工的冷核聚变来说，根本不足为题。”

    “你们快去将光刻机的模具拿过来，还有光刻机对准系统的工作日志打印下来。”

    “我现在就要对于光刻机的对准系统，进行改良！”

    在贺老的言语之下，实验室里的众人立刻忙碌了起来。

    贺志远看着头顶明亮的灯泡，流露出笑容。

    其实能够在这么短的时间内，光刻机取得阶段性的进展，还是取决于苏川。

    首先是，对于苏川提出脉冲冷激光的想法，直接改变了他的思路。

    这段时间，他们一直在研究脉冲冷激光。

    在此之前，尝试的极紫外光最多也就保证10纳米到15纳米精度的光刻。

    脉冲冷激光则既然相反。

    在理论上甚至能够达到1纳米级别，甚至更为精细的光刻！

    他们在短时间内，光刻机的核心技术，曝光系统突飞猛进。

    反而是对准系统，开始拖后腿了。

    不过在今天发生的低频电磁脉冲意外后。

    实验室里不断闪烁的灯光，给了贺老灵感。

    没错，对准系统的解决方法很简单。

    只需要反复关闭启动脉冲冷激光，以闪烁的方式进行光刻，在光刻中因为持续运作所造成的误差，可以大幅度减少。

    贺老看着几名工作人员递交过来的对准系统运行日志，以及晶圆模具笑了起来。

    一切与他计算的一致！

    从另外的一个角度来说。

    大夏的高精度光刻机，已经可以提前宣布，研发成功了！